Интерес к графену связан с рядом его уникальных свойств: электронных, оптических, механических, тепловых. Двумерный идеальный графен не может быть получен в свободном состоянии в связи с его термодинамической нестабильностью. Однако если такая пленка деформирована в третьем измерении либо имеет дефекты, то она может существовать без контакта с подложкой. Свободные пленки графена образуют поверхность волнистой формы, но происхождение и природа деформаций в целом остаются предметом дискуссий. Такие волны оказывают прямое действие на свойства материала, а значит, за контролем морфологии графена следует контроль его свойств. Для реальных экспериментов и изучения этой проблемы на наномасштабных объектах требуется сложная, высокоточная и дорогостоящая аппаратура. Поэтому актуальным является моделирование графена. В работе реализовано компьютерное моделирование релаксации двух видов нанолистов графена — размером 7,2 × 7,2 нм и 14,4 × 14,4 нм, в двух режимах релаксации — электромеханическом и механохимическом. Вычислено среднеквадратичное отклонение атомов углерода от первоначального положения для каждого из случаев. Комплекс компьютерных экспериментов показал принципиально различное поведение листов графена в двух предельных режимах релаксации.